Prodotti

Id-dar / Prodotti/ Prodotti tat-titanju / Forġa u Ittimbrar

Purità Għolja Titanju Sputtering Mira

Oġġett: Mira ta 'Sputtering tat-Titanju ta' Purità Għolja
Materjal: titanju ta 'purità għolja
Dimensjoni: Dia63 x37mm, Dia100 x40mm
Applikazzjonijiet: PVD, Coting, Semikondutturi.
Keyword: sputtering mira għal PVD
Teknika: Forġa, Tħin.
Purità: 'il fuq minn 99.95%
Termini ta 'Ħlas: T/T in vista, L/C.
Standards: ISO 9001:2015, EN10204 3.1, MTC/EN10204 3.2

Ibgħat l-inkjesta

Introduzzjoni tal-Prodott

Deskrizzjoni

Il-miri ta 'sputtering tat-titanju ta' purità għolja huma prinċipalment użati fl-industriji tal-elettronika u tal-informazzjoni, bħal ċirkwiti integrati, ħażna ta 'informazzjoni, wirjiet tal-kristalli likwidi, memorji tal-lejżer, tagħmir ta' kontroll elettroniku, eċċ., Jista 'jintuża wkoll f'materjali reżistenti għall-ilbies, għoli temperatura, u reżistenza għall-korrużjoni, Provvisti dekorattivi High-end u industriji oħra.

Karatteristiċi

Mgħammar b'kisja avvanzata ta 'sputtering ta' magnetron, li tuża sistema ta 'kanun ta' elettron biex temetti u tiffoka elettroni fuq il-materjal li qed jiġi miksi sabiex l-atomi sputterjati jsegwu l-prinċipju ta 'konverżjoni tal-momentum u jinqalgħu mill-materjal b'enerġija kinetika ogħla. Meta mqabbel ma 'prodotti fis-suq, il-mira tagħna ta' sputtering ta 'purità għolja tadotta teknoloġiji ta' sputtering għal materjali ta 'film irqiq. Juża l-joni ġġenerati mis-sors biex taċċellera l-konċentrazzjoni fil-vakwu biex tifforma raġġ ta 'jone ta' enerġija b'veloċità għolja, li jibbumbardja l-wiċċ solidu, u l-joni jiskambjaw enerġija kinetika mal-atomi tal-wiċċ solidu.

Isem tal-Oġġett	Purità tat-titanju: 99.999%
Purità	99.99%~99.995%
Forma	Round jew tkun imfassla skont it-talba tiegħek
Daqs disponibbli	1. Dijametru tond: 30-2000mm, ħxuna: 3.0mm-300mm 2. Pjanċa: Tul: 200-500mm Wisa':100-230mm Ħxuna: 3-40mm 3. personalizzat huwa disponibbli
Standards TQC	ISO9001:2008, SGS, Ir-rapport ta 'parti terza
Proċessur	Falsifikati u CNC bil-makna
Wiċċ	Wiċċ tat-tidwir.
Applikazzjonijiet
Applikazzjoni	Electroplating, inġinerija kimika u teknoloġija petrokimika, industrija medika, separazzjoni tas-semikondutturi, materjali tal-kisi tal-film, kisi tal-elettrodi tal-ħażna, kisi sputtering, kisi tal-wiċċ, u industrija tal-kisi tan-nuċċalijiet. Aerospazjali (magni bil-ġett, missili, u vetturi spazjali), prodotti militari, kimiċi u taż-żejt, desalinizzazzjoni u industrija tal-karta, karozzi, ikel agrikolu, mediċi (riġlejn protetiċi, impjanti ortopediċi, u strumenti dentali u fillers), utensili sportivi, dehbijiet, u ċelluli telefowns, eċċ.

Komponent kimiku

Oġġett	N	C	H	Fe	O	Mo	Ni	Residwi Element	Max Total
Gr1	0.03	0.08	0.015	0.2	0.18	/	/	0.1	0.4
Gr2	0.03	0.08	0.015	0.3	0.25	/	/	0.1	0.4
Gr7	0.03	0.08	0.015	0.3	0.25	/	/	0.1	0.4
Gr12	0.03	0.08	0.015	0.3	0.25	0.2-0.4	0.6-0.9	0.1	0.4

Karatteristiċi

Purità: il-purità hija waħda mill-indiċi tal-prestazzjoni ewlenin tal-materjal fil-mira minħabba li l-purità tal-materjal fil-mira għandha influwenza kbira fuq il-prestazzjoni tal-film.

Fil-prattika, madankollu, għandhom ukoll rekwiżiti differenti għall-purità tal-materjal fil-mira.

Kontenut ta 'impurità: impuritajiet solidi fil-materjal fil-mira u l-porożità ta' l-ossiġnu u l-umdità huma s-sorsi ewlenin ta 'film ta' depożizzjoni. Użi differenti tal-mira għandhom rekwiżiti differenti għall-kontenut ta 'impurità, per eżempju, f'materjal semikonduttur industrijali pur aluminju u liga tal-aluminju, il-kontenut tal-metall alkali u l-kontenut tal-element radjuattiv għandhom rekwiżiti speċjali.

Aktar ma tkun għolja l-purità tal-mira, aħjar tkun il-prestazzjoni tal-film. Il-mira tagħna ta 'sputtering tat-titanju ta' purità għolja tista 'tilħaq il-purità ta' 99.995%.